| 环带式磁流变抛光加工石英光学零件实验分析 |
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| 引用本文： | 郭忠达,吴高军,阳志强,刘卫国,杭凌侠.环带式磁流变抛光加工石英光学零件实验分析[J].西安工业大学学报,2009,29(2). |
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| 作者姓名： | 郭忠达 吴高军 阳志强 刘卫国 杭凌侠 |
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| 作者单位： | 西安工业大学,光电工程学院,西安,710032
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| 基金项目： | 陕西省教育厅科研项目 |
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| 摘 要： | 针对磁流变抛光工艺参数对加工石英光学零件表面粗糙度的影响规律,进行了平面石英玻璃光学零件的工艺实验.应用正交实验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数:磁场强度、工件轴转速、平摆速度、抛光盘与工件间的间隙对石英玻璃表面粗糙度的影响规律,确定了石英玻璃磁流变抛光最优工艺因素.并分阶段采用不同工艺参数进行磁流变抛光,抛光后石英玻璃光学零件的表面粗糙度值达到0.6 nm.
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| 关 键 词： | 磁流变抛光 表面粗糙度 正交实验 石英玻璃 |
Experiment and Analysis on Processing Quartz Glass Optical Parts by MRF |
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| Authors: | GUO Zhong-da WU Gao-jun YANG Zhi-qiang LIU Wei-guo HANG Ling-xia |
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