| pH值和缓冲剂对水热电化学沉积HA/TiO_2涂层的影响 |
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| 引用本文： | 马凤仓,徐敏,刘平,李伟,刘新宽,何代华,陆晓琴.pH值和缓冲剂对水热电化学沉积HA/TiO_2涂层的影响[J].功能材料,2014(7). |
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| 作者姓名： | 马凤仓 徐敏 刘平 李伟 刘新宽 何代华 陆晓琴 |
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| 作者单位： | 上海理工大学材料科学与工程学院;上海理工大学机械工程学院; |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(51201107);上海市自然科学基金资助项目(09ZR1422100);上海市科学技术委员会重点科技攻关资助项目(11441900501);上海市教委科研创新一般资助项目(10YZ94) |
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| 摘 要： | 以微弧氧化后的钛合金为基体,采用水热电化学法制备了HA/TiO2涂层。利用SEM、XRD对涂层的表面形貌、物相组成进行了表征分析,通过pH微探针原位探测电极/电解液界面pH值的变化,研究了pH值和缓冲剂对水热电化学沉积HA/TiO2涂层的影响。研究结果表明,微弧氧化膜有利于水热电化学沉积HA,得到的HA晶体分布均匀、致密。当电解液pH值在2~8时,pH值升高有利于提高水热电化学沉积HA的结晶度,并促使HA沿(002)晶面生长。在水热电化学沉积HA过程中,电极表面的pH值随沉积时间的增加先升高后逐渐降低;而溶液中的pH值随沉积时间的增加逐渐降低。pH值和缓冲剂对涂层HA晶体形貌有明显影响,加入缓冲剂后得到的HA晶体端面呈六边形棒状结构,晶体表面光滑、结晶完整。
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| 关 键 词： | 微弧氧化膜 水热电化学法 羟基磷灰石 pH值 缓冲剂 |
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