| W／Al—CLM的W／γ—Al2O3催化剂上钨的分散性能 |
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| 引用本文： | 刘维桥,徐景峰,等.W／Al—CLM的W／γ—Al2O3催化剂上钨的分散性能[J].石油化工高等学校学报,2002,15(2):5-9. |
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| 作者姓名： | 刘维桥 徐景峰 等 |
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| 作者单位： | 东北大学材料与冶金学院，抚顺石油学院石油化工系，抚顺石油学院石油化工系，东北大学材料与冶金学院，北京石油化工学院 辽宁沈阳110006.抚顺石油学院石油化工系，辽宁抚顺113001，辽宁抚顺113001，辽宁抚顺113001，辽宁沈阳110006，北京102600 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (2 96 730 11) |
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| 摘 要： | 采用浸渍法和干混法制备了一系列负载钨的层柱分子筛催化剂 (W /Al -CLM )以及负载钨的γ -Al2 O3 催化剂 (W/γ -Al2 O3 )。利用XRD分析了样品表面上钨的分散性。结果发现 ,两种催化剂均可以使钨含量低的催化剂中钨在载体表面上自发分散而使晶相钨物种消失 ,而钨含量高时 ,催化剂表面上保留晶相钨物种。而且无论是浸渍法还是干混法合成的催化剂 ,相同钨含量时 ,均是W /Al-CLM催化剂表面上钨的分散性优于W/γ -Al2 O3催化剂。同时 ,对于W /Al-CLM催化剂和W/γ -Al2 O3 催化剂 ,在相同钨含量情况下 ,均是浸渍法催化剂表面上钨物种的分散性优于干混法。通过氨水处理 ,可以使低、中以及高钨含量的催化剂上所有晶相钨物种消失 ,即溶解掉一部分表面钨物种 ,改善了钨物种在载体表面上的分散性
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| 关 键 词： | 层柱分子筛 γ-Al2O3 钨 分散性 |
| 文章编号： | 1006-396X(2002)02-0005-05 |
| 修稿时间： | 2001年5月19日 |
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