| 双离子束沉积Zr-O薄膜的组成分析 |
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| 引用本文： | 黄宁康,胡志荃.双离子束沉积Zr-O薄膜的组成分析[J].真空科学与技术学报,1994(4). |
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| 作者姓名： | 黄宁康 胡志荃 |
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| 作者单位： | 四川大学原子核科学技术研究所!成都610064(黄宁康)，厦门灯泡厂!厦门361004(胡志荃) |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金!19175．29 |
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| 摘 要： | 离子束溅射沉积锆的同时以氧离子轰击形成Zr－O薄膜，经RBS及XPS分析表明薄膜由3部分组成：表面碳沾污层；Zr－O膜体；膜与基体的界面过渡层。氧离子束流密度从0.8μA／cm2增至30μA／cm2，膜体的O]／Zr]原子比值由略大千零升至2，最后稳定于2，碳沾污层及界面过渡层的厚度并不随氧离子束流密度的增加而变化。还讨论了Zr的化学位移情况。
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| 关 键 词： | 双离子束 Zr－O薄膜 沉积 |
COMPOSITIONS OF Zr-O FILMS PRODUCED WITH DUAL ION BEAM TECHNOLOGY |
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| Huang Ningkang.COMPOSITIONS OF Zr-O FILMS PRODUCED WITH DUAL ION BEAM TECHNOLOGY[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1994(4). |
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| Authors: | Huang Ningkang |
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| Keywords: | Dual ion beam Zr-O film Deposition |
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