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| 技术动态 | |
| 摘 要： | IBM半导体工艺突破摩尔定律延续 IBM宣布,该公司已经开发出193纳米DUV(DEEPULTRAVIOLET OPTICAL LITHOGRAPHY)技术,可以用于生产只有 29．9纳米见方的电路,相当于当前主流芯片的三分之一。从某种意义上讲,IBM的新技术为“摩尔定律”继续生效扫清了障碍。英特尔联合创始人高顿-摩尔(GORDON MOORE)1965年提出,单位面积芯片上的晶体管数量大约每两年增加一倍,这就是著名的摩尔定律。多年以来,芯片产业的发展一直遵循着这一规律。人多数业内人士认为,至少在2015年之前,摩尔定律将继续生效。 |
| 关 键 词： | 技术动态 半导体工艺 摩尔定律 国家重点 WAPI 政府采购 联合开发 IBM MCU |
Technology News |
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