| 离子刻蚀对磁控溅射氧化铝薄膜的影响 |
| |
| 引用本文： | 林晶,刘壮,孙智慧,高德. 离子刻蚀对磁控溅射氧化铝薄膜的影响[J]. 包装工程, 2008, 29(7) |
| |
| 作者姓名： | 林晶 刘壮 孙智慧 高德 |
| |
| 作者单位： | 哈尔滨商业大学,哈尔滨,150028;印刷包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600;哈尔滨商业大学,哈尔滨,150028 |
| |
| 基金项目： | 国家科技支撑计划，印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题 |
| |
| 摘 要： | 研究了PET薄膜表面经氩离子刻蚀后其物理性能的变化,经氩离子刻蚀后磁控溅射沉积Al2O3薄膜表面的测试结果表明:离子刻蚀使PET基体表面更加洁净;Al2O3与基体的结合强度增大;镀膜表面更加均匀;虽然对阻隔性的影响不大,但由于结合强度的增加,Al2O3膜在使用的过程中,膜层不易脱落,对保持阻隔性有一定的作用.
|
| 关 键 词： | 离子刻蚀 磁控溅射 陶瓷薄膜 阻隔性 |
Influences of Ion Etching on Al2O3 Films Deposited by Magnetron Sputtering |
| |
| LIN Jing,LIU Zhuang,SUN Zhi-hui,GAO De. Influences of Ion Etching on Al2O3 Films Deposited by Magnetron Sputtering[J]. Packaging Engineering, 2008, 29(7) |
| |
| Authors: | LIN Jing LIU Zhuang SUN Zhi-hui GAO De |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
