|
|||||
|
|
| 化学汽相淀积（CVD）设备的使用与维修 | |
| 引用本文： | 王焕杰,张克云.化学汽相淀积（CVD）设备的使用与维修[J].电子与自动化,1994,23(5):34-36. |
| 作者姓名： | 王焕杰 张克云 |
| 作者单位： | 复旦大学 |
| 摘 要： | 化学汽相淀积（ＣＶＤ）设备的使用与维修王焕杰，张克云，陈振昌（复旦大学．上海．２００４３３）自８０年代初开始，化学汽相淀积（简称ＣＶＤ）工艺及其专用设备，在我国半导体器件制造工业中逐渐推广使用。多种ＣＶＤ设备，包括ＬＰＣＶＤ氨化硅／多晶硅，ＬＰＣＶＤ... |
| 关 键 词： | 化学汽相淀积 CVD设备 维修 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |