电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响

采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO2-Ta2O5电极。与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO2-Ta2O5电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布。强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20d,比喷砂处理后制备的电极寿命（16d）显著提高20％;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1．62—1．73V,明显低于喷砂后制备的钛电极（1．92V）,电解时可降低电耗。