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| 硅（外延）片表面结构缺陷的光学无损检测 | |
| 引用本文： | 邓江东,李增发,张光寅,颜彩繁,王宏杰.硅（外延）片表面结构缺陷的光学无损检测[J].半导体学报,1996,17(5):365-369. |
| 作者姓名： | 邓江东 李增发 张光寅 颜彩繁 王宏杰 |
| 作者单位： | [1]南开大学物理系 [2]天津半导体材料厂 |
| 摘 要： | 反射型魔镜检测方法（Ｒ－ＭＭ）是基于“局域波面畸变”缺陷成像原理的一种光学无损检测方法．我们采用Ｒ－ＭＭ方法检测了大量的硅片和硅外延片，非常方便直观地观测到漩涡缺陷、杂质条纹、管道等十多种反映实际生产工艺问题的缺陷，经化学腐蚀对比实验表明，检测结果是可靠的．在本文中，我们还着重讨论了外延层对衬底结构缺陷“放大”作用及其物理机制．并报道了缺陷种类与外延片类型之间存在的一些特殊对应关系． |
| 关 键 词： | 缺陷 硅片 光学无损检测 半导体晶片 |
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