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离子束辅助沉积铂碳混合膜及其抑制栅电子发射性能
引用本文:江炳尧,冯涛,王曦,柳襄怀. 离子束辅助沉积铂碳混合膜及其抑制栅电子发射性能[J]. 功能材料与器件学报, 2008, 14(4)
作者姓名:江炳尧  冯涛  王曦  柳襄怀
作者单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,上海,200050;纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心,华东师范大学,上海,200062
摘    要:采用离子束辅助沉积技术,在硅、钼衬底上分别制备铂碳混合膜.XRD的分析结果表明,当铂碳混合膜中铂的组份较多时,有较强的铂(111)面衍射峰和较弱的铂(200)面衍射峰,铂的组份呈(111)择优取向.Raman谱的分析结果表明,碳基本上呈非晶状态.模拟二极管的实验表明,在纯钼阳极上镀覆铂碳混合膜,其抑制热电子发射的性能明显优于纯钼阳极.

关 键 词:离子束辅助沉积  铂碳混合膜  栅电子发射

Electron emission suppression characteristics of Pt-C thin film deposited by ion beam assisted deposition
JIANG Bing-yao,FENG Tao,WANG Xi,LIU Xiang-huai. Electron emission suppression characteristics of Pt-C thin film deposited by ion beam assisted deposition[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2008, 14(4)
Authors:JIANG Bing-yao  FENG Tao  WANG Xi  LIU Xiang-huai
Abstract:
Keywords:
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