| Ag层沉积速率对SnO2/Ag/SnO2三层膜透明导电性能的影响 |
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| 引用本文： | 王崇杰,祝柏林,赵绚,马俊敏,吴隽,甘章华,刘静.Ag层沉积速率对SnO2/Ag/SnO2三层膜透明导电性能的影响[J].硅酸盐学报,2019,47(7):900-907. |
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| 作者姓名： | 王崇杰 祝柏林 赵绚 马俊敏 吴隽 甘章华 刘静 |
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| 作者单位： | 武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081;武汉科技大学,省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室,武汉 430081 |
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| 基金项目： | 材料成形与模具技术国家重点实验室开放基金课题 |
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| 摘 要： | 以射频磁控溅射方法在两种沉积速率下(0.065和0.750 nm/s)制备单层Ag膜,研究了沉积速率对Ag膜结构的影响。以同样的两种速率制备Ag层,并变化Ag层厚度,研究了制备的SnO2/Ag/SnO2 3层膜的透明导电性能。结果发现:高速沉积的Ag膜晶粒粗大、表面粗糙度低,也即其结晶性更好且易于连续成膜,该结果很好地解释了当Ag层膜厚较薄时(<6 nm),高速沉积Ag层制备的SnO2/Ag/SnO2 3层膜表现出更高的品质因子。当Ag层膜厚较厚时(>6 nm),低速沉积Ag层制备的3层膜的品质因子更高,并且在Ag层厚度为8 nm时获得的最高的品质因子(4.73×10-2/Ω),大于Ag层高速沉积且膜厚为6 nm时,获得的最高品质因子(3.45×10-2/Ω),这可能与Ag层较厚时,粗糙表面的Ag层表现出更高的透光性有关。
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| 关 键 词： | 氧化物/金属/氧化物3层膜 透明导电性 沉积速率 渗透阈值 品质因子 |
Effect of Ag Layer Deposition Rate on Transparent Conductive Properties of SnO2/Ag/SnO2 Three-layer Film |
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| WANG Chongjie,ZHU Bailin,ZHAO Xuan,MA Junmin,WU Jun,GAN Zhanghua,LIU Jing.Effect of Ag Layer Deposition Rate on Transparent Conductive Properties of SnO2/Ag/SnO2 Three-layer Film[J].Journal of The Chinese Ceramic Society,2019,47(7):900-907. |
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| Authors: | WANG Chongjie ZHU Bailin ZHAO Xuan MA Junmin WU Jun GAN Zhanghua LIU Jing |
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| Affiliation: | (The State Key Laboratory of Refractories and Metallurgy,Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China) |
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| Abstract: | WANG Chongjie;ZHU Bailin;ZHAO Xuan;MA Junmin;WU Jun;GAN Zhanghua;LIU Jing(The State Key Laboratory of Refractories and Metallurgy,Wuhan University of Science and Technology,Wuhan 430081,China) |
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| Keywords: | oxide/metal/oxide tri-layer films transparent conductive properties deposition rate percolation threshold figure of merit |
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