| 斜入射法测量蓝宝石基片仿真分析与实验 |
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| 引用本文： | 刘致远,陈磊,朱文华,丁煜,韩志刚. 斜入射法测量蓝宝石基片仿真分析与实验[J]. 光学仪器, 2019, 41(2): 6-12 |
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| 作者姓名： | 刘致远 陈磊 朱文华 丁煜 韩志刚 |
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| 作者单位： | 南京理工大学 电子工程与光电技术学院,江苏 南京 210094;南京理工大学 先进发射协同创新中心,江苏 南京 210094 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（U1731115） |
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| 摘 要： | 为获取具有微米量级变化的蓝宝石基片的面形分布,采用斜入射法拓展数字干涉仪测量范围。根据斜入射测量原理,推导了斜入射角、平面面形偏差与系统波像差之间的关系。通过Zemax构建了斜入射测量仿真光路,研究了面形偏差及入射角度对检测结果的影响。通过仿真实验得出最佳斜入射角度等关键参数,并在斐索干涉仪上测量了直径为100 mm的蓝宝石基片,测量结果的PV为5.182μm,RMS为1.251μm。研究了斜入射角对分辨率、灵敏度因子、条纹对比度的影响。研究表明,斜入射角为70°时,适宜测量矢高值≤5μm的蓝宝石基片,引入误差小于0.1μm,测量范围是正入射测量范围的1.46倍,且能获得适宜的条纹对比度。
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| 关 键 词： | 干涉测量 斜入射 蓝宝石基片 Zemax仿真 |
| 收稿时间： | 2018-04-10 |
Simulation and experiment of sapphire substrate based on oblique incidence |
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| LIU Zhiyuan,CHEN Lei,ZHU Wenhu,DING Yu and HAN Zhigang. Simulation and experiment of sapphire substrate based on oblique incidence[J]. Optical Instruments, 2019, 41(2): 6-12 |
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| Authors: | LIU Zhiyuan CHEN Lei ZHU Wenhu DING Yu HAN Zhigang |
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| Affiliation: | School of Electronic and Optical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, China,School of Electronic and Optical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, China,School of Electronic and Optical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, China,School of Electronic and Optical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, China and Advanced Launch Corporative Innovation Center, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing 210094, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | interferometry oblique incidence sapphire substrate Zemax simulation |
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