| 扫描干涉光刻机的超精密移相锁定系统 |
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| 引用本文： | 王磊杰,张鸣,朱煜,鲁森,杨开明.扫描干涉光刻机的超精密移相锁定系统[J].光学精密工程,2019,27(8). |
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| 作者姓名： | 王磊杰 张鸣 朱煜 鲁森 杨开明 |
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| 作者单位： | 清华大学 机械工程系 摩擦学国家重点实验室 &精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京,100084;清华大学 机械工程系 摩擦学国家重点实验室 &精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京,100084;清华大学 机械工程系 摩擦学国家重点实验室 &精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京,100084;清华大学 机械工程系 摩擦学国家重点实验室 &精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京,100084;清华大学 机械工程系 摩擦学国家重点实验室 &精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目;中国博士后科学基金资助项目;02国家重大科技专项资助项目 |
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| 摘 要： | 扫描干涉光刻机移相锁定是实现大面积高精度全息光栅曝光拼接的关键之一。为了实现大面积高精度全息光栅高精度曝光拼接,针对扫描干涉光刻机步进扫描拼接轨迹,重点开展了移相锁定系统的研究。在零差移频式相位锁定分系统和外差利特罗式光栅位移测量干涉仪的基础上,阐述了扫描干涉光刻机的新型移相锁定系统原理。针对新型的移相锁定系统原理,构建了移相锁定控制系统实验装置。最后,基于移相锁定控制实验装置,针对移相锁定定位性能,开展了移相锁定定位控制实验以及影响控制精度的因素分析,实现了±3.27nm (3σ,Λ=251nm)的定位控制精度;针对移相跟踪控制性能,在移相跟踪控制精度实验分析的基础上,利用陷阱滤波PID控制实现了±4.17nm(3σ,Λ=251nm)的跟踪控制精度。
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| 关 键 词： | 扫描干涉光刻 零差移频式相位锁定 外差利特罗光栅干涉仪 移相锁定控制 陷阱滤波 |
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