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采用低温辐射加热源的有机半导体薄膜真空蒸发设备的研制
引用本文:李训栓,宋长安,彭应全,杨青森,赵明.采用低温辐射加热源的有机半导体薄膜真空蒸发设备的研制[J].真空,2008,45(2):43-45.
作者姓名:李训栓  宋长安  彭应全  杨青森  赵明
作者单位:兰州大学物理科学与技术学院,甘肃,兰州,730000
摘    要:针对有机半导体材料的蒸发温度低的特点,设计并制作了低温辐射式加热器和衬底加热器.低温辐射式加热器能有效的克服传统加热源在制备有机半导体薄膜过程中的缺点.衬底加热器也能明显的改善有机半导体薄膜的表面形貌.采用低温辐射式加热器和衬底加热器对有机半导体材料进行蒸发或溅射镀膜能够取得良好效果.其制作成本低,加热效率高,同时又能提高原有设备功效,在教学和科研生产中有着广泛的应用前景.

关 键 词:有机半导体薄膜  低温辐射式加热器  衬底加热器  低温辐射  热源  有机半导体薄膜  真空  蒸发设备  heater  radiation  Development  thin  films  semiconductor  organic  evaporation  前景  应用  科研生产  教学  高原  热效率高  成本  效果
文章编号:1002-0322(2008)02-0043-03
修稿时间:2007年9月27日

Development of low-temperature radiation heater/substrate heater for evaporation of organic semiconductor thin films
LI Xun-Shuan,SONG Chang-an,PENG Ying-Quan,YANG Qing-sen,ZHAO Ming.Development of low-temperature radiation heater/substrate heater for evaporation of organic semiconductor thin films[J].Vacuum,2008,45(2):43-45.
Authors:LI Xun-Shuan  SONG Chang-an  PENG Ying-Quan  YANG Qing-sen  ZHAO Ming
Abstract:
Keywords:
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