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薄膜干法刻蚀技术的现状与发展趋势
作者姓名:李云奇  王宝霞
作者单位:东北工学院(李云奇),东北工学院(王宝霞)
摘    要:本文对薄膜刻蚀的原理及用途作了叙述,并对干法离子束刻蚀与湿法化学刻蚀的优缺点作了比较,还就国内外研究的现状作了叙述,最后对干法刻蚀的研究方向及发展趋势作了论述。

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