| KZ-400离子束刻蚀装置的研制 |
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| 引用本文： | 徐朝银,董晓浩,赵飞云,高飞,徐德权,凤良杰,阎佐健,孙继武. KZ-400离子束刻蚀装置的研制[J]. 真空科学与技术学报, 2006, 26(1): 48-53 |
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| 作者姓名： | 徐朝银 董晓浩 赵飞云 高飞 徐德权 凤良杰 阎佐健 孙继武 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学科技大学国家同步辐射实验室,合肥,230029
2. 沈阳市慧宇应用技术研究所,沈阳,110042 |
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| 摘 要： | 日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置。它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀。通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置性能的主要因素,优化工艺结构,使各项指标达到了设计要求,现已投入运行。
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| 关 键 词： | 离子束刻蚀 有限元分析 扫描运动 束流密度均匀性 优化设计 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）01-048-06 |
| 收稿时间： | 2005-08-01 |
| 修稿时间： | 2005-08-01 |
Development of KZ-400 Ion Beam Etching Facility |
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| Xu Chaoyin,Dong Xiaohao,Zhao Feiyun,Gao Fei,Xu Dequan,Feng Liangjie,Yan Zuojian,Sun Jiwu. Development of KZ-400 Ion Beam Etching Facility[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2006, 26(1): 48-53 |
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| Authors: | Xu Chaoyin Dong Xiaohao Zhao Feiyun Gao Fei Xu Dequan Feng Liangjie Yan Zuojian Sun Jiwu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Ion beam etching Finite element analysis Scanning motion Uniformity of the beam density Optimize design |
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