| CVD异质外延金刚石膜最新研究进展 |
| |
| 引用本文： | 王万录,廖克俊,方亮. CVD异质外延金刚石膜最新研究进展[J]. 真空电子技术, 2001, 0(5): 29-33 |
| |
| 作者姓名： | 王万录 廖克俊 方亮 |
| |
| 作者单位： | 重庆大学理学院应用物理系 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(19904016) |
| |
| 摘 要： | 评论了国内外化学气相沉积的异质外延金刚石膜制备技术、性质表征以及应用和展望。
|
| 关 键 词： | 异质外延 金刚石膜 化学气相沉积 |
| 文章编号： | 1002-8935(2001)05-0029-05 |
| 修稿时间： | 2001-04-25 |
Latest Research and Development of Heteroepitaxial Diamond Film by Chemical Vapor Deposition |
| |
| WANG Wan lu,LIAO Ke jun,FANG Liang. Latest Research and Development of Heteroepitaxial Diamond Film by Chemical Vapor Deposition[J]. Vacuum Electronics, 2001, 0(5): 29-33 |
| |
| Authors: | WANG Wan lu LIAO Ke jun FANG Liang |
| |
| Abstract: | The major aspects of the recent development in the growth, characterization and applications of the hetero epitaxial diamond films by chemical vapor deposition were reviewed. |
| |
| Keywords: | Hetero epitaxial Diamond films Growth and characterization Chemical vapor deposition |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
