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制造太阳电池新方法日本富士电机综合研究所和东京理科大学合作,共同研究成功在玻璃上喷涂Cd、S、Cu、In、Se化合物太阳电池材料薄膜。其厚度为2μm。它把含有Cd、S、Cu、In、Se的混合水溶液,用喷涂法喷涂在加热到200—350℃的基板上。这种方法不需要在蒸发法及溅射法中所用的真空装置,而且不受基板材料大小的限制。同时,这种太阳电池比非晶硅太阳电池的耐用性好,长期使用其发电效率不会降低。