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| Pb1—xGexTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究 | |
| 作者姓名： | 李斌 张凤山 等 |
| 作者单位： | 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083 |
| 摘 要： | 1薄膜光学和光学薄膜技术以及光学薄膜器件温度稳定性的研究 自二十世纪三十年代年代中期出现反射镜、减反射膜和利用光的干涉效应的滤光片以来,薄膜光学和光学薄膜技术走过了半个多世纪,已经发展成为一门成熟的工程技术学科. |
| 关 键 词： | 碲锗铅材料 光学薄膜器件 温度稳定性 薄膜光学 |
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