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| 光刻技术在微细加工中的应用 | |
| 引用本文： | 刘建海,陈开盛,曹庄琪. 光刻技术在微细加工中的应用[J]. 半导体技术, 2001, 26(8): 37-39,48 |
| 作者姓名： | 刘建海 陈开盛 曹庄琪 |
| 作者单位： | 1. 上海先进半导体制造有限公司 2. 上海光刻电子科技有限公司 3. 上海交通大学 |
| 摘 要： | 介绍光刻技术中的曝光设备与技术，光刻工艺及工艺控制在集成电路微细加工中的应用。 |
| 关 键 词： | 光刻 深亚微米 曝光分辨率 微细加工 微电子 |
| 文章编号： | 1003-353X(2001)08-0037-03 |
Application of lithography technology in microelectronics manufacturing |
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| LIU Jian-hai, CHEN Kai-sheng, CAO Zhuang-qi. Application of lithography technology in microelectronics manufacturing[J]. Semiconductor Technology, 2001, 26(8): 37-39,48 | |
| Authors: | LIU Jian-hai CHEN Kai-sheng CAO Zhuang-qi |
| Abstract: | The lithography techniques described in this article include.The exposure machine and techniques, optical lithography process flow and processing control in planer micro-processing. |
| Keywords: | optical lithography deep submicron exposure resolution ratio |
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