首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Ag@MoS2/P(VDF-HFP)电介质复合材料的制备及性能研究
引用本文:胡思超,李衡峰,杨科.Ag@MoS2/P(VDF-HFP)电介质复合材料的制备及性能研究[J].绝缘材料,2020,53(5):1-7.
作者姓名:胡思超  李衡峰  杨科
作者单位:中南大学 材料科学与工程学院,湖南 长沙 410083;中南大学 材料科学与工程学院,湖南 长沙 410083;中南大学 材料科学与工程学院,湖南 长沙 410083
摘    要:采用两步水热法制备了高长径比核-壳结构Ag@MoS_2纳米线,以P(VDF-HFP)为基体、Ag@MoS_2纳米线作为填料,在不同填充量下通过溶液共混和流延法制备了复合材料薄膜。采用SEM、TEM、XRD、XPS等对Ag@MoS_2的微观结构、尺寸、化学成分进行表征,并利用SEM和阻抗分析仪对复合材料的微观形貌和介电性能进行表征。结果表明:Ag@MoS_2填料在聚合物基体中分散均匀,且两相之间的界面结合效果良好。随着填料含量的增加,复合材料的介电常数逐渐增大,当Ag@MoS_2的质量分数为35%时,1 kHz下复合材料的介电常数为67.2,介质损耗因数仅为0.15,且复合材料的介电常数和介质损耗呈现出较弱的频率依赖性。

关 键 词:Ag纳米线  二硫化钼  核壳结构  复合材料  介电性能
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号