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| 全息微光刻中全息掩模衍射特性的理论研究 | |
| 引用本文： | 彭宗举,陈芬,周亚训,冯伯儒,张锦.全息微光刻中全息掩模衍射特性的理论研究[J].光电子技术与信息,2004,17(6):67-71. |
| 作者姓名： | 彭宗举 陈芬 周亚训 冯伯儒 张锦 |
| 作者单位： | 1. 宁波大学信息科学与工程学院,浙江,宁波,315211 2. 宁波大学信息科学与工程学院,浙江,宁波,315211;宁波大学光纤通信与网络技术研究所,浙江,宁波,315211 3. 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助(69776028) |
| 摘 要： | 通过耦合波理论分析，使用矩阵转换方法，对全息光刻中全息掩模衍射效率进行数值模拟计算，得出了影响全息掩模衍射特性的因素主要是显影前后记录材料平均介电常数的改变、介质的膨胀与收缩以及非共轭再现等，为实验研究提供了理论依据． |
| 关 键 词： | 全息光刻 耦合波理论 衍射特性 光刻技术 |
| 文章编号： | 1006-1231(2004)06-0067-05 |
| 修稿时间： | 2004年2月17日 |
Theoretical Research on the Diffraction Property of Hologram Mask in Holographic Microlithography |
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