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离子速度对霍尔推力器壁面鞘层特性的影响
作者姓名:段萍  覃海娟  周新维  曹安宁  殷燕
作者单位:大连海事大学物理系;
基金项目:国家自然科学基金(11275034;11375039;11175052;11005025);辽宁省科学技术计划重点项目(2011224007)~~
摘    要:为进一步探索霍尔推力器通道内等离子体鞘层的物理机制,针对霍尔推力器等离子体鞘层区域建立二维物理模型,采用二维粒子模拟方法研究了二次电子发射系数、鞘层电子数密度、鞘层电势以及电场随离子入射速度的变化规律,分析了模拟区域径向尺度大小对鞘层稳定性的影响。结果表明:壁面二次电子发射系数随离子入射速度的增大有少许增大,变化在10-3数量级;随着离子入射速度的增大,电子数密度、鞘层电势降及径向电场都减小,而轴向电场几乎不变;在相同的边界条件下,模拟区域径向尺度的增大会导致壁面电势随时间的振荡加剧,鞘层稳定性降低。

关 键 词:霍尔推力器  离子入射速度  鞘层  粒子模拟  二次电子发射  壁面电势
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