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气相沉积技术制备6.5wt%Si高硅钢的研究进展
摘    要:综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积技术制备高硅钢的工艺和路线,并对其前景进行了展望。

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