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双向电流应力下的金属膜电迁移机理研究
引用本文:章晓文,恩云飞. 双向电流应力下的金属膜电迁移机理研究[J]. 电子产品可靠性与环境试验, 2004, 0(2): 6-9
作者姓名:章晓文  恩云飞
作者单位:信息产业部电子第五研究所,广东,广州,510610;电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室,广东,广州,510610;信息产业部电子第五研究所,广东,广州,510610;电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室,广东,广州,510610
基金项目:电子元器件可靠性物理及其应用技术国家重点实验室基金(51433020101DZ1504)资助。
摘    要:对脉冲应力作用下金属铝膜的电迁移失效机理进行了研究,研究了纯交流应力对金属铝膜电迁移可靠性的影响,对影响测试结构的相关因素作了详细的描述。借助于脉冲波形的傅里叶级数分解,研究了一般交流应力条件下金属化电迁移的影响因素。建立了一般交流应力条件下金属铝膜电迁移寿命模型。

关 键 词:金属铝膜  纯交流应力  一般交流应力  电迁移  失效机理  寿命模型
文章编号:1672-5468(2004)02-04
修稿时间:2003-10-24

Aluminium Film EM Mechanism Study under Bidirectional Current Stressing
ZHANG Xiao-wen,EN Yun-fei. Aluminium Film EM Mechanism Study under Bidirectional Current Stressing[J]. Electronic Product Reliability and Environmental Testing, 2004, 0(2): 6-9
Authors:ZHANG Xiao-wen  EN Yun-fei
Abstract:Metal Aluminium film EM failure mechanism has been studied under pulsed stress, and the Metal Aluminium EM reliability under pure AC stress has been discussed, a detailed specification has been made about relative factor affecting test structures. Metal Aluminium film EM in general AC stress has been researched with Fourier decomposition, developing a Metal Aluminium film EM life model under in general AC stress.
Keywords:aluminium film  pure AC stress  general AC stress  EM  failure mechanism  life model
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