利用射频磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Zr透明导电薄膜 |
| |
作者姓名: | 刘汉法 张化福 类成新 袁玉珍 袁长坤 |
| |
作者单位: | 山东理工大学物理与光电信息技术学院,山东淄博255049 |
| |
摘 要: | 利用射频磁控溅射法首次在室温水冷柔性衬底PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO:Zr)透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜表明,ZnO:Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有平行于衬底方向的择优取向。实验获得ZnO:Zr薄膜的最小电阻率为1.55×10^-3Q·cm。实验制备的ZnO:Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光区平均透过率超过90%。
|
关 键 词: | ZnO:Zr薄膜 柔性衬底 磁控溅射 透明导电薄膜 |
本文献已被 维普 等数据库收录! |
|