| 表面波等离子体制备碳膜的膜厚分布及工艺优化 |
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| 引用本文： | 徐均琪,上坂裕之,梅原德次.表面波等离子体制备碳膜的膜厚分布及工艺优化[J].西安工业大学学报,2007,27(1):1-5. |
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| 作者姓名： | 徐均琪 上坂裕之 梅原德次 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院 西安710032(徐均琪)，名古屋大学机械科学与工程系 名古屋464-8603(上坂裕之，梅原德次) |
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| 基金项目： | 陕西省科研项目;教育部科学技术研究项目;日本创新能源和工业技术开发协会(NEDO)究基金 |
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| 摘 要： | 表面波等离子体(surface-wave-sustained plasma,SWP)是近年发展起来的一种新型低压,高密度等离子体.应用这种技术,采用物理气相沉积(PVD)方法,很容易实现镀膜过程中的离子束辅助沉积(IBAD),从而制备出性能优异的无氢碳膜.采用一种新型的SWP源沉积出无氢碳膜,用郎缪尔探针测试了不同工艺条件下的等离子体密度分布.采用正交实验设计方法,研究了沉积薄膜的膜厚分布特性,分析了膜厚分布与等离子体密度分布的关系,并对制备的工艺参数进行了优化.结果表明,这种新型的SWP源,能够产生高达1011～1014cm-3的等离子体密度.薄膜在整个圆周方向都具有良好的均匀性,沿轴向约为75 mm(膜厚差值±5%).研究中同时获得了影响表面波等离子体膜厚均匀性的显著因素和制备薄膜均匀性最好的工艺条件.
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| 关 键 词： | 表面波 无氢碳膜 工艺参数 等离子体密度 正交实验 |
| 文章编号： | 1000-5714（2007）01-001-05 |
| 收稿时间： | 2006-08-10 |
| 修稿时间： | 2006年8月10日 |
Parameters Optimization and Thickness Distribution of Hydrogen-free Carbon Films Prepared by Newly Developed Surface-wave-sustained Plasma |
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| Authors: | XU Jun-qi KOUSAKA Hiroyuki UMEHARA Noritsugu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | surface-wave-sustained plasma hydrogen-free carbon films experimental parameter electron density orthogonal experiment |
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