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| 共聚[甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸(3-肟基-2-丁酮)酯-甲基丙烯腈]:一种远紫外光致抗蚀剂 | |
| 摘 要： | <正> 现在,光刻技术已广泛应用于集成电路的制备工艺中。常规的投影装置使用波长为350～450nm的光源,由于衍射的限制,其分辨率只能达到大约2μm。可是,集成电路向着复杂化和小型化方向发展,要求使用更小的器件。实现该目标的一个引入注目的方 |
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