用电子束全息照相术以5毫微米的分辨率观测磁场

日本日立制作所所属中央研究所发现了利用电子束全息照相术，以5毫微米的分辨率观测磁场的方法。用于观测的试样是厚度为50毫微米的钴薄膜。在此试样上，用间隙为0.2微米的磁头以0.15微米的间隔进行磁记录。钴薄膜是在玻璃基板上以对基板表面呈倾斜的方向进行蒸镀而作成。