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| 提高193nm ArF Stepper分辨率的几种技术 | |
| 引用本文： | 翁寿松.提高193nm ArF Stepper分辨率的几种技术[J].半导体行业,2006(2):43-45. |
| 作者姓名： | 翁寿松 |
| 摘 要： | 193nm ArF Stepper是量产90nm芯片的主流光刻机。在此基础上。综合采用浸入式光刻技术和增大数值孔径NA技术等。已制造出193nm ArF浸入式光刻机．它将是量产65／45nm芯片的主流光刻机。 |
| 关 键 词： | 193nm 准分子激光步进扫描投影光刻机 分辨率 浸入式光刻技术 |
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