摘 要: | 用伏安测量法、紫外光谱法和接触角测量法研究了在电位固定时 ,在合成硫砷铜矿和天然硫砷铜矿表面上黄药和双黄药的氧化和还原。在矿物电极调浆 10min后 ,用接触角测量法研究了施加在浸在pH 7和pH 10的戊基钾黄药 (PAX)溶液中硫砷铜矿电极上的电位对接触角大小的影响。还研究了PAX浓度对硫砷铜矿可浮选的电位范围的影响。用己烷萃取 -紫外光谱法研究了硫砷铜矿表面上的疏水膜。研究结果表明 ,PAX溶液中硫砷铜矿表面上的疏水膜是双黄药 ,在 7·10 - 4 mol/LPAX溶液中 ,在硫砷铜矿表面上形成双黄药的电位为 :pH 10时为 0 2V ,在 pH 7时为 -0 2 75V。在7·10 - 5mol/LPAX溶液中 ,硫砷铜矿可浮选的电位范围比在 7·10 - 4 mol/LPAX溶液中的要窄些 ,为 6 0~ 70mV。硫砷铜矿表面上双黄药膜还原所需要的电位低于 -0 6V。
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