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镍钨合金镀层结构的研究
引用本文:万小波,张林,周兰,肖江. 镍钨合金镀层结构的研究[J]. 材料保护, 2005, 38(5): 8-10
作者姓名:万小波  张林  周兰  肖江
作者单位:中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
基金项目:中国工程物理研究院科技基金
摘    要:采用硫酸镍、钨酸钠和柠檬酸三钠为基本组分的镀液,通过电镀的方法在紫铜试片上沉积得到了镍钨合金镀层.讨论了电解液的组成、阴极电流密度、温度及pH值对镀层组成和结构的影响.根据X射线衍射试验结果,研究了镀层结构的形成过程.结果表明,该Ni-W镀层是以Ni为溶剂原子、W为溶质原子的置换型固溶体结构,随着镀层中W含量的增加,晶粒尺寸明显下降,晶粒逐渐细化.

关 键 词:电沉积  镍钨合金镀层  非晶态  X射线衍射
文章编号:1001-1560(2005)05-0008-03

Structure of Nickel-Tungsten Alloy Electroplating
WAN Xiao-bo,ZHANG Lin,ZHOU Lan,Xiao Jiang. Structure of Nickel-Tungsten Alloy Electroplating[J]. Journal of Materials Protection, 2005, 38(5): 8-10
Authors:WAN Xiao-bo  ZHANG Lin  ZHOU Lan  Xiao Jiang
Abstract:
Keywords:electrodeposition  nickel-tungsten alloy plating  amorphous state  X-ray diffraction
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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