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| 分辨力自增掩模板 | |
| 作者姓名： | 陈旭南 罗先刚 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
| 摘 要： | 随着现代微电子技术向高集成度超微细化方向发展,为提高制作微细图形的光刻设备所能达到的光刻分辨力水平,在设备不更新的情况下,通常采用相移掩模或离轴照明方法,来提高光刻分辨力和增大焦深. |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |
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