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杂志ISSN号
分辨力自增掩模板
作者姓名:
陈旭南
罗先刚
作者单位:
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
摘 要:
随着现代微电子技术向高集成度超微细化方向发展,为提高制作微细图形的光刻设备所能达到的光刻分辨力水平,在设备不更新的情况下,通常采用相移掩模或离轴照明方法,来提高光刻分辨力和增大焦深.
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