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紫外写入法制造光纤光栅对光源时空相干性的要求
引用本文:陶振宁 吴德明. 紫外写入法制造光纤光栅对光源时空相干性的要求[J]. 光电子.激光, 2000, 11(3): 270-273
作者姓名:陶振宁 吴德明
作者单位:北京大学电子系,区域光纤通信网和新型光通信系统国家重点实验室(北京实验区)北京,100871
基金项目:国家自然科学基金重大资助项目!( 69990 5 40 -2 )
摘    要:为了解决掩模板+紫外写入法制造光纤光栅时紫外光源的选取问题,本文详细讨论了衍射场的反衬度与紫外光源时间和空间相干性的关系。针对掩模板紧贴光纤和掩模板后放置一对平面镜再放光纤这两种情况进行了讨论,前一方法对光源的时、空间相干性要求低,相比之下,后一方法要求高两个数量级。

关 键 词:时空相干性 光纤光栅 紫外写入法 光源
修稿时间:1999-05-24

The Interference of UV Laser Required by Fabricating Bragg Grating by UV Exposure
TAO Zhen-ning,WU De-ming. The Interference of UV Laser Required by Fabricating Bragg Grating by UV Exposure[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 2000, 11(3): 270-273
Authors:TAO Zhen-ning  WU De-ming
Abstract:In order to decide which UV laser to e mploye in fiber Bragg grating fabricating,the contrast of the UV diffraction fie ld is carefully discussed when the UV lasers with different interference are use d.Two methods are discussed.One is putting the phase mask near the fiber and the other is putting two mirrors between the phase mask and the fiber.The former me thod does not require strict interference characteristic while the other one req uires 100 times higher strict characteristic.
Keywords:interference  Bragg grating  phase ma sk
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