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专利快讯
摘    要:专利名称:双层双面平面微线圈专利申请号:03212217.9公开号:CN2634714申请日:2003.03.26公开日:2004.08.18申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所本实用新型属于微机械构件,涉及一种对微型平面线圈的改进。包括:衬底、上、下绝缘层,上、下一层电铸阴极.上、下一层微线圈,上、下一层微线圈绝缘层,上二层电铸阴极,下二层电铸阴极,上、下二层微线圈,上、下保护层,上、下附加磁芯,磁芯,解决了单面线圈引起平面微电机的单边拉力、电磁力矩小的问题。在相同体积下可增加平面微电机的电磁力矩。采用硅材料使微线圈便于与电路及其它微器件…

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