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| 球心处有附加电极的半圆形容器等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化 | |
| 引用本文： | 刘成森,李晓红,王德真,刘天伟.球心处有附加电极的半圆形容器等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化[J].真空科学与技术学报,2008,28(5). |
| 作者姓名： | 刘成森 李晓红 王德真 刘天伟 |
| 作者单位： | 1. 辽宁师范大学物理与电子技术学院,大连,116029 2. 大连理工大学物理与光电工程学院,三束材料改性国家重点实验室,大连,116023 3. 中国工程物理研究院表面物理与化学国家重点实验室,绵阳,621900 |
| 摘 要： | 本文利用两维流体模型研究了半圆形容器在放置共心零电位附加电极情况下,等离子体源离子注入的离子鞘层时空演化动力学过程.考察了鞘层内随时间变化的电势分布和离子密度分布,计算了容器内外表面的离子束流密度分布和注入剂量分布随时间的变化规律.研究结果显示,容器内表面附近鞘层扩展到附加电极后,其中的离子逐渐都注入到容器内表面、电场分布逐渐趋于稳定.同时,在容器内表面上,离子注入剂量不再增加. |
| 关 键 词： | 半圆形容器 等离子体源离子注入 鞘层演化 |
Ion Dynamics in Pulsed Plasma Sheath of Plasma Source Ion Implantation of a Hemispherical Bowl-Shaped Vessel Object with a Concentric Auxiliary Electrode |
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| Liu Chengsen,Li Xiaohong,Wang Dezhen,Liu Tianwei.Ion Dynamics in Pulsed Plasma Sheath of Plasma Source Ion Implantation of a Hemispherical Bowl-Shaped Vessel Object with a Concentric Auxiliary Electrode[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(5). | |
| Authors: | Liu Chengsen Li Xiaohong Wang Dezhen Liu Tianwei |
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| Keywords: | |
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