| 磁控溅射带电粒子的运动分布以及靶面刻蚀形貌的研究 |
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| 引用本文： | 于贺,王涛,吴志明,蒋亚东,姜晶,靖红军. 磁控溅射带电粒子的运动分布以及靶面刻蚀形貌的研究[J]. 真空, 2009, 46(5) |
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| 作者姓名： | 于贺 王涛 吴志明 蒋亚东 姜晶 靖红军 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054 |
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| 基金项目： | 自然科学基金，国家863计划，新世纪优秀人才计划 |
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| 摘 要： | 首先使用有限元分析方法求解磁控溅射电磁场的分布,然后结合受力分析,仿真了单电子运动轨迹并较好地呈现螺旋形状,同时模拟出多粒子柬的靶面位置分布以及刻蚀形貌图,最后把计算结果与实验中靶面刻蚀形貌进行对比,所求结果与实验测量数据吻合.
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| 关 键 词： | 粒子模拟 磁控溅射 电磁场分布 刻蚀形貌 |
Study on movement of charged particles and etched profile on target surface during magnetron sputtering |
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| YU He,WANG Tao,WU Zhi-ming,JIANG Ya-dong,JIANG Jing,JING Hong-jun. Study on movement of charged particles and etched profile on target surface during magnetron sputtering[J]. Vacuum(China), 2009, 46(5) |
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| Authors: | YU He WANG Tao WU Zhi-ming JIANG Ya-dong JIANG Jing JING Hong-jun |
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