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单晶圆兆声清洗技术研究及兆声喷头方案优化
引用本文:刘永进,杜建科,冯小强. 单晶圆兆声清洗技术研究及兆声喷头方案优化[J]. 电子工业专用设备, 2011, 40(1): 15-17
作者姓名:刘永进  杜建科  冯小强
作者单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所;
摘    要:基于单晶圆兆声清洗的原理,分析了针对单晶圆兆声清洗的多种方案的优缺点,提出了适合单晶圆兆声清洗的优化方案.

关 键 词:单晶圆  兆声  清洗

Study of Single-wafer Megasonic Cleaning and Optimization of Megasonic Nozzle
LIU Yongjin,DU Jianke,FENG Xiaoqiang. Study of Single-wafer Megasonic Cleaning and Optimization of Megasonic Nozzle[J]. Equipment for Electronic Products Marufacturing, 2011, 40(1): 15-17
Authors:LIU Yongjin  DU Jianke  FENG Xiaoqiang
Affiliation:LIU Yongjin,DU Jianke,FENG Xiaoqiang (The 45th Research Institute of CETC,Beijing 101601,China)
Abstract:Based on the theory of single-wafer megasonic cleaning,measures are anlysised,and an improved measure is indicated.
Keywords:Single-wafer  Megasonic  Cleaning  
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