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硅基自锐式纳米针尖一次成型制作工艺的研究
引用本文:薛伟,李加东,谢杰,吴东岷.硅基自锐式纳米针尖一次成型制作工艺的研究[J].压电与声光,2013,35(1):125-128.
作者姓名:薛伟  李加东  谢杰  吴东岷
作者单位:1. 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米研究国际实验室,江苏苏州215125;中国科学院研究生院,北京100049
2. 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米研究国际实验室,江苏苏州,215125
基金项目:国家自然科学基金青年科学基金资助项目(61104226);国家重大科学研究计划基金资助项目(2010CB934700)
摘    要:对采用KOH溶液腐蚀单晶硅制备自锐式纳米针尖的一次成型制作工艺进行了研究,为提高自锐式纳米针尖的纵横比,根据各向异性腐蚀针尖的自锐效应模型,分析了腐蚀溶液的浓度及掩模形状对针尖形状的影响,得到了提高自锐式纳米针尖纵横比的条件,实验结果表明,在15 rnol/L,60℃的KOH腐蚀液中采用五边形掩模可获取纵横比约等于1,针尖曲率半径小于10 nm的自锐式纳米针尖,针尖侧壁由{113}晶面组成.

关 键 词:纳米针尖  自锐效应  纵横比  各向异性腐蚀

The Formation of Self Sharpening Nano Silicon Tips by Single Step Etching
XUE Wei,LI Jiadong,XIE Jie and WU Dongmin.The Formation of Self Sharpening Nano Silicon Tips by Single Step Etching[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2013,35(1):125-128.
Authors:XUE Wei  LI Jiadong  XIE Jie and WU Dongmin
Affiliation:1(1.International Lab.for Adaptive Bio-nanotechology,Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics, Chinese Academy of Sciences,Suzhou 215125,China;2.Graduate University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China)
Abstract:
Keywords:nano tip  self sharpening effect  aspect ratio  anisotropic etching
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