| 真空退火对VOx薄膜相结构及表面形貌的影响 |
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| 引用本文： | 何延春,邱家稳,郭宁,许旻,王洁冰,赵印中.真空退火对VOx薄膜相结构及表面形貌的影响[J].真空与低温,2003,9(3):148-151. |
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| 作者姓名： | 何延春 邱家稳 郭宁 许旻 王洁冰 赵印中 |
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| 作者单位： | 兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000 |
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| 摘 要： | 以V2O5粉末为原料,采用无机溶胶-凝胶法制备了V2O5凝胶膜,经过真空退火处理得到了以VO2为主的薄膜。利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同实验条件下得到的薄膜的物相和表面形貌进行分析,得出了VOx薄膜相结构及表面形貌与真空退火条件之间的关系。
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| 关 键 词： | 真空退火 无机溶胶-凝胶法 VOx薄膜 相结构 表面形貌 |
| 文章编号： | 1006-7086(2003)03-0148-04 |
| 修稿时间： | 2003年4月30日 |
THE EFFECT OF VACUUM ANNEALING ON THE PHASE AND MORPHOLOGY OF THE VOx THIN FILMS |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | vacuum annealing inorganic sol-gel method VO_x thin films phase morphology |
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