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| 高折射率镜头推动浸没式光刻跨越32纳米 | |
| 作者姓名： | Aaron Hand |
| 作者单位： | Semiconductor International |
| 摘 要： | 在今年的SPIE Microlithography年会上,与会的专家们一如既往地针对如何延伸光学光刻技术使用寿命的问题进行了大量的研讨。而与往年会议不同的是,尽管有人心存疑虑,但今年的会议仍然对双重曝光技术打开了友善之门。关于这项技术,普遍的问题是如何妥善地解决图形套 |
| 关 键 词： | 光学光刻技术 32纳米 高折射率 浸没式 跨越 镜头 SPIE 使用寿命 曝光技术 生产工艺 |
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