|
|||||
|
|
| SU-8胶及其在MEMS中的应用 | |
| 引用本文： | 刘景全,蔡炳初,陈迪,朱军,赵小林,杨春生.SU-8胶及其在MEMS中的应用[J].微纳电子技术,2003(8). |
| 作者姓名： | 刘景全 蔡炳初 陈迪 朱军 赵小林 杨春生 |
| 摘 要： | SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶.它适于制超厚、高深宽比的MEMS微结构.SU-8胶在近紫外光范围内光吸收度低,故整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一致,可得到具有垂直侧壁和高深宽比的厚膜图形;它还具有良好的力学性能、抗化学腐蚀性和热稳定性; SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体使用.由于它具有较多优点,被逐渐应用于MEMS的多个研究领域.本文主要分析SU-8胶的特点,介绍其在MEMS的一些主要应用,总结了我们研究的经验,以及面临的一些问题,并对厚胶技术在我国的应用提出建议和意见. |
| 关 键 词： | SU-8胶 MEMS 厚胶技术 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |