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| 真空灭弧室发展新趋势 | |
| 引用本文： | 张琳.真空灭弧室发展新趋势[J].电气制造,2009(4):16-17. |
| 作者姓名： | 张琳 |
| 作者单位： | 河南平高电气股份有限公司 |
| 摘 要： | 人类从事将真空作为灭弧和绝缘介质的应用研究，到现在已有100多年的历史。真空灭弧室自问世以来，一直在向小型化、高可靠性及低成本方向发展，随着真空断路器应用范围的扩大，真空灭弧室有了更新的发展趋势。 |
| 关 键 词： | 真空灭弧室 真空断路器 绝缘介质 高可靠性 发展趋势 小型化 低成本 应用 |
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