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真空灭弧室发展新趋势
作者姓名:张琳
作者单位:河南平高电气股份有限公司
摘    要:人类从事将真空作为灭弧和绝缘介质的应用研究,到现在已有100多年的历史。真空灭弧室自问世以来,一直在向小型化、高可靠性及低成本方向发展,随着真空断路器应用范围的扩大,真空灭弧室有了更新的发展趋势。

关 键 词:真空灭弧室  真空断路器  绝缘介质  高可靠性  发展趋势  小型化  低成本  应用
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