| 板式pecvd制备氧化铝工艺研究 |
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| 引用本文： | 杨飞飞,鲁贵林,赵科巍,张波,张云鹏,郭丽.板式pecvd制备氧化铝工艺研究[J].山西化工,2020,40(1). |
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| 作者姓名： | 杨飞飞 鲁贵林 赵科巍 张波 张云鹏 郭丽 |
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| 作者单位： | 山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000;山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000;山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000;山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000;山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000;山西潞安太阳能科技有限责任公司,山西 长治 046000 |
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| 基金项目： | 山西省重点研发计划(指南)项目;山西省重点研发计划项目 |
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| 摘 要： | 相比原子层沉积(ALD),等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD)在氧化铝钝化膜制备方面沉积速率快。利用板式PECVD在电池背表面制备氧化铝钝化膜,膜厚控制在7nm～10nm,折射率大于1.63,双面氧化铝钝化少子寿命可达3ms,表面复合速率低至3cm/s。结合背激光开槽开孔率的增大,应用到量产钝化发射极背接触(PERC)晶硅电池,效率可达22.3%。
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| 关 键 词： | 等离子体化学气相沉积 氧化铝钝化膜 晶硅电池 |
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