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IC用铜基引线框架材料的现状与发展
引用本文:李莉.IC用铜基引线框架材料的现状与发展[J].有色金属加工,2007,36(2):15-16.
作者姓名:李莉
作者单位:江西理工大学材料与化学工程学院,江西赣州,341000
摘    要:介绍了国内外常用的IC用引线框架材料的性能及研究现状,并对其发展前景进行了展望。

关 键 词:集成电路  铜合金  引线框架
文章编号:1671-6795(2007)02-0015-02
修稿时间:2006年12月14

Status and Development of Copper Alloy for Leading Frame of Integrated Circuit
LI Li.Status and Development of Copper Alloy for Leading Frame of Integrated Circuit[J].Nonferrous Metals Processing,2007,36(2):15-16.
Authors:LI Li
Abstract:
Keywords:
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