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硫化铵钝化锑化镓表面的化学与电学性质研究
作者姓名:陶东言  程雨  刘京明  苏杰  刘彤  杨凤云  王凤华  曹可慰  董志远  赵有文
摘    要:本文利用X射线光电子能谱(XPS),飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)和电流-电压特性(I-V)对不同硫化铵溶液((NH4)2S)钝化后的锑化镓(GaSb)表面化学性质进行了研究。通过对比,发现中性(NH4)2S S溶液对GaSb表面的钝化能力要优于纯(NH4)2S溶液和碱性(NH4)2S S溶液。碱性(NH4)2S S溶液在有效去除GaSb表面氧化物的同时形成硫化物产物以改善器件性能。TOF-SIMS测试结果从另一方面证实纯(NH4)2S溶液钝化也会形成硫化物产物,但该产物在纯(NH4)2S溶液中是可溶的,以至于很难稳定地存在。3D光学轮廓仪测试结果显示中性(NH4)2S S溶液钝化的GaSb表面具有最低的粗糙度。I-V测试结果表明中性(NH4)2S S溶液钝化能显著提高GaSb基肖特基二极管的电学性能。综上所述,中性(NH4)2S S溶液的钝化效果在改进GaSb表面性质方面具有最优的结果。

关 键 词:surface passivation  GaSb  XPS  TOF-SIMS
修稿时间:2015-02-02
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