数字磁带机用非晶态磁头合金的研究

本工作研究出适合于数字磁带机用的非晶态钴基磁头合金,经合适的磁性退火后其静态磁性能为:B_1=0.57T,μ_0≥40000,μ_m≥300000,H_c≤0.064A/m。动态磁性能为:在B=0.005T下f=20kH_z,μ′≈25000;f=100kH_z,μ′≈10000;f=1MH_z,μ′≈1000。该合金具有良好的耐磨性,经装制磁头试验比硬坡莫合金高约4～5倍。易于加工和光刻腐蚀。制做1600位/时数字磁头全部达到了规定的技术指标。