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常压烧结Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2陶瓷的研究
引用本文:杨明辉,郝春云,高玲. 常压烧结Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2陶瓷的研究[J]. 佛山陶瓷, 2005, 15(4): 1-3
作者姓名:杨明辉  郝春云  高玲
作者单位:武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉,430070
摘    要:本研究了Si3N4-MgO—Y2O3-CeO2陶瓷的烧结过程和微观结构,常压烧结氮化硅陶瓷的致密化主要通过液相烧结实现。微观分析结果表明,氮化硅烧结体的显微结构为等轴状的α—Si3N4和长柱状的β—Si3N4相互交织,这种结构有利于提高烧结体的强度和韧性。

关 键 词:氮化硅  常压烧结  显微结构

Research in Pressureless Sintering Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2 Ceramics
Yang Minghui,Hao Chunyun,Gao Ling. Research in Pressureless Sintering Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2 Ceramics[J]. Foshan Ceramics, 2005, 15(4): 1-3
Authors:Yang Minghui  Hao Chunyun  Gao Ling
Abstract:
Keywords:silicon nitride  pressureless sintering  microstructure
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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