电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀合成AIN薄膜

利用电子浴辅助阴极电弧源活性反应离子镀法。在Ｓｉ、Ｍｏ和不锈钢等基材上合成ＡＩＮ薄膜，采用ＳＥＭ、ＸＲＤ及ＩＲ对薄膜的表面形貌、晶体结构进行了分析。结果表明，用此法可以合成高质量的ＡｌＮ薄膜，而且具有合成速度快、设备简单等优点，有较好的开发和应用前景。